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실리신 양자점 제조방법 및 이에 의해 제조된 실리신 양자점 (Method for manufacturing silicene qu…

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발명의 명칭 실리신 양자점 제조방법 및 이에 의해 제조된 실리신 양자점 (Method for manufacturing silicene quantum dots and silicene quantum dots manufactured by the same)
등록일자 2020년 6월 10일
등록번호 제 10-2123753 호
출원번호 제 10-2019-0000471 호

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본 발명은 실리신 양자점 제조방법 및 이에 의해 제조된 실리신 양자점에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고품질의 고발광 특성을 갖는 실리신(silicene) 양자점을 실리콘 파우더와 알칼리 금속을 이용하여 제조하는 실리신 양자점 제조방법 및 이에 의해 제조된 실리신 양자점에 관한 것이다.

본 발명에 따른 실리신 양자점 제조방법은 실리콘 파우더와 알칼리 금속을 혼합시켜 혼합물을 제조하는 단계; 상기 혼합물을 열처리하여 층간이 분리된 실리콘 층간 화합물을 제조하는 단계; 상기 실리콘 층간 화합물을 용매 내에서 박리를 통해 실리신 양자점 박리 용액을 획득하는 단계; 및 상기 실리신 양자점 박리 용액으로부터 알칼리 금속 이온을 제거하여 실리신 양자점을 획득하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.